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日立微焦斑XRF光譜儀_微束X射線熒光涂層厚度和材料分析儀|FT,MAXXI和X-Strata系列
日立微焦斑XRF光譜儀_微束X射線熒光涂層厚度和材料分析儀簡(jiǎn)介：
微束XRF涂層厚度和材料分析儀，方便快速進(jìn)行質(zhì)量控制和驗(yàn)證測(cè)試，在幾秒內(nèi)即可獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)。
基于X-光熒光的涂層厚度和材料分析是業(yè)內(nèi)廣泛接受認(rèn)可的分析方法，日立微焦斑XRF光譜儀_微束X射線熒光涂層厚度和材料分析儀|FT,MAXXI和X-Strata系列提供易于使用、快速和無(wú)損的分析，幾乎不需要樣本制備，能夠分析元素周期表上從13Al到92U的固體或液體樣品。
日立微焦斑XRF光譜儀_微束X射線熒光涂層厚度和材料分析儀應(yīng)用：
■微焦斑 XRF 光譜儀應(yīng)用于 PCB、半導(dǎo)體和電子行業(yè)
▲PCB / PWB 表面處理
控制表面處理工藝的能力決定線路板的品級(jí)、可靠性和壽命。根據(jù)IPC 4556和IPC 4552A測(cè)量非電鍍鎳（EN，NiP）電鍍厚度和成分結(jié)構(gòu)。日立分析儀器產(chǎn)品幫助您在嚴(yán)控的范圍內(nèi)持續(xù)運(yùn)營(yíng)，*****并避免昂貴的返工。
▲電力和電子組件的電鍍
零件必須在規(guī)格范圍內(nèi)被電鍍，以達(dá)到預(yù)期的電力、機(jī)械及環(huán)境性能。 開槽的X-Strata和MAXXI系列產(chǎn)品 ，可以測(cè)量小的試片或連續(xù)帶狀樣品，從而達(dá)到 引線框架（引線框架）、連接器插針、線材和端子的上、中和預(yù)鍍層厚度的控制。
▲IC 載板
半導(dǎo)體器件越來越小巧而復(fù)雜，需要分析設(shè)備測(cè)量其在小區(qū)域上的薄膜。日立分析儀器的分析儀設(shè)計(jì)為可為客戶所需應(yīng)用提供高準(zhǔn)確性分析，及重復(fù)性好的數(shù)據(jù)。
▲服務(wù)電子制造過程 （EMS、ECS）
結(jié)合 采購(gòu)和本地制造的組件及涉及產(chǎn)品的多個(gè)測(cè)試點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)從進(jìn)廠檢查到生產(chǎn)線流程控制，再到*終質(zhì)量控制。日立分析儀器的微焦斑XRF產(chǎn)品幫助您在全生產(chǎn)鏈分析組件、焊料和*終產(chǎn)品，**每個(gè)階段的質(zhì)量。
▲光伏產(chǎn)品
對(duì)可再生能源的需求不斷增加，而光伏在收集太陽(yáng)能量方面扮演著重要的角色。有效收集這種能量的能力一部分取決于薄膜太陽(yáng)能電池的質(zhì)量。微束XRF可幫助**這些電池鍍層的準(zhǔn)確度和連貫性，從而*****率。
▲受限材料和高可靠性篩查
與復(fù)雜的全球供應(yīng)鏈合作，驗(yàn)證和檢驗(yàn)從供應(yīng)商處收到的材料至關(guān)重要。使用日立分析儀器的XRF技術(shù)，根據(jù)IEC 62321方法檢驗(yàn)進(jìn)貨是否符合RoHS和ELV等法規(guī)要求，**高可靠性涂鍍層被應(yīng)用于航空和**領(lǐng)域。
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X-Strata920 |
X-Strata920 |
FT110A |
MAXXI 6 |
FT150高分辨率 SDD毛細(xì)管聚焦光學(xué)系統(tǒng) |
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ENIG |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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ENEPIG |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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非電鍍鎳厚度和組成 (IPC 4556, IPC 4552) |
無(wú) |
★★☆ |
無(wú) |
★★★ |
★★★ |
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非電鍍鎳厚度 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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浸鍍銀 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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浸鍍錫 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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HASL |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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無(wú)鉛焊料（如 SAC) |
★☆☆ |
★★☆ |
★☆☆ |
★★★ |
★★★ |
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CIGS |
無(wú) |
★★☆ |
無(wú) |
★★★ |
★★★ |
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CdTe |
無(wú) |
★★☆ |
無(wú) |
★★★ |
★★★ |
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納米級(jí)薄膜分析 |
無(wú) |
★★☆ |
無(wú) |
★★★ |
★★★ |
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多層分析 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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IEC 62321 RoHS 篩選 |
無(wú) |
無(wú) |
無(wú) |
★★★ |
無(wú) |
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檢測(cè)特征 < 50 μm |
無(wú) |
無(wú) |
無(wú) |
無(wú) |
★★★ |
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模式識(shí)別軟件 |
無(wú) |
無(wú) |
★★★ |
無(wú) |
★★★ |
■微焦斑XRF光譜儀應(yīng)用于金屬表面處理
▲耐腐蝕性
檢驗(yàn)所用涂層的厚度和化學(xué)性質(zhì)，以**產(chǎn)品在惡劣環(huán)境下的功能性和使用壽命。輕松處理小緊固件或大型組件。
▲耐磨性
通過**磨蝕環(huán)境中關(guān)鍵部件的涂層厚度和均勻度，預(yù)防產(chǎn)品故障。復(fù)雜的形狀、薄或厚的涂層和成品都可被測(cè)量。
▲裝飾性表面
當(dāng)目標(biāo)是實(shí)現(xiàn)無(wú)瑕表面時(shí)，整個(gè)生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制至關(guān)重要。通過日立分析儀器的多種測(cè)試設(shè)備，您可以可靠地檢測(cè)基材，中間層和頂層厚度。
▲耐高溫
在*端條件下進(jìn)行的零件的表面處理必須被控制在嚴(yán)格公差范圍內(nèi)。**符合涂鍍層規(guī)格、避免產(chǎn)品召回和潛在的災(zāi)難性故障。
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X-Strata920正比計(jì)數(shù)器 |
X-Strata920高分辨率SDD |
FT110A正比計(jì)數(shù)器 |
MAXXI 6高分辨率SDD |
FT150 高分辨率SDD |
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Zn / Fe, Fe 合金
Cr / Fe, Fe 合金 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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ZnNi / Fe, Fe 合金 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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NiP / Fe |
★★☆ |
★★☆ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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Ag / Cu |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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Cr / Ni / Cu / ABS |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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Au / Pd / Ni /CuZn |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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WC / Fe, Fe 合金 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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納米級(jí)薄膜分析 |
無(wú) |
★★☆ |
無(wú) |
★★★ |
★★★ |
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多層分析 |
★★☆ |
★★★ |
★★☆ |
★★★ |
★★★ |
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IEC 62321 RoHS 篩選 |
無(wú) |
無(wú) |
無(wú) |
★★★ |
無(wú) |
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DIM可變焦測(cè)試系統(tǒng) |
無(wú) |
無(wú) |
★★★ |
無(wú) |
無(wú) |
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模式識(shí)別軟件 |
無(wú) |
無(wú) |
★★★ |
無(wú) |
無(wú) |
日立微焦斑XRF光譜儀_微束X射線熒光涂層厚度和材料分析儀產(chǎn)品型號(hào)：
1、X-Strata920
→正比計(jì)數(shù)器或高分辨率 SDD
→元素范圍：鈦 - 鈾，或鋁 - 鈾（SDD）
→樣品艙設(shè)計(jì)：開槽式
→XY 軸樣品臺(tái)選擇： 固定臺(tái)、加深臺(tái)、自動(dòng)臺(tái)
→*大樣品尺寸：270 x 500 x 150毫米
→*大數(shù)量準(zhǔn)直器：6
→濾光片：1
→*小的準(zhǔn)直器：0.01 x 0.25毫米(0.5 x10 mil)
→SmartLink 軟件
2、FT110A
¨正比計(jì)數(shù)器系統(tǒng)
¨元素范圍：鈦 - 鈾
¨樣品艙設(shè)計(jì)：開閉式或開槽式
¨XY 軸樣品臺(tái)選擇： 開閉式固定臺(tái)、開閉式程控臺(tái)、開槽式固定臺(tái)、開槽式程控臺(tái)
¨*大樣品尺寸：500 x 400 x 150 毫米
¨*大數(shù)量準(zhǔn)直器：4
¨濾光片：1
¨*小的準(zhǔn)直器：0.05 毫米
¨X-ray Station 軟件
3、MAXXI 6
?高分辨率 SDD
?元素范圍： 鋁 - 鈾
?樣品艙設(shè)計(jì)：開槽式
?XY 軸樣品臺(tái)選擇：固定臺(tái)、自動(dòng)臺(tái)
?*大樣品尺寸：500 x 450 x 170毫米
?*大數(shù)量的準(zhǔn)直器：8
?濾光片：5
?*小的準(zhǔn)直器： 0.05 x 0.05毫米(2 x 2 mil)
?SmartLink 軟件
4、FT150
?高分辨率 SDD
?元素范圍： 鋁 - 鈾
?樣品艙設(shè)計(jì)：開閉式
?XY 軸樣品臺(tái)選擇：自動(dòng)臺(tái)、晶片樣品臺(tái)
?*大樣品尺寸：600 x 600 x 20 毫米
?濾光片：1 或 3
?毛細(xì)聚焦管 < 20 μm
?XRF控制軟件
